第五届国际正电子湮没会议

    • 摘要: 1979年4月8日至11日在日本富士山的山中湖村召开了第五届国际正电子湮没会议,18个国家的180余名学者出席了会议。会上宣读了190余篇论文。大会开得生动活泼,富有成效。第一届(1965年召开)国际正电子湮没会议的主席,加拿大的Stewart教授回顾了卅年来正电子湮没研究的发展历程和成就,日本东京大学工学部冶金及材料科学系主任堂山昌男教授详细地介绍了正电子湮没技术在金属缺陷和相变研究中的应用,并列举了他们获得大量实验结果。……

       

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